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微納米氧化鋁漿料分散機

微納米氧化鋁漿料分散機,GMD2000是由膠體磨和分散機組合而成的設備,轉速高達18000rpm,強大的剪切力。膠體磨磨頭配合分散機分散盤,先研磨后分散。這種特殊的設計的優(yōu)勢在于,粒子細化之后容易出現(xiàn)絮凝現(xiàn)象,所以此時分散十分重要,而砂磨機難以分散。

  • 產(chǎn)品型號:GMD2000
  • 廠商性質:生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-09-18
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產(chǎn)品詳情

微納米氧化鋁漿料分散機

氧化鋁漿料分散機,氧化鋁水性漿料高速分散機,氧化鋁水性漿料納米分散機,氧化鋁水性漿料超細分散機,氧化鋁漿料分散機

 

一、氧化鋁的廣泛應用

 

氧化鋁具有硬度高、化學穩(wěn)定性好、導熱絕緣性能好等優(yōu)點,已被廣泛應用在陶瓷、無機膜、研磨拋光材料等領域。用作分析試劑、導熱相變材料、CCL、環(huán)氧塑封料、環(huán)氧澆注料填充劑、導熱鋁基板、導熱硅膠墊、導熱灌封膠、導熱硅脂、導熱膠泥、導熱雙面膠有機溶劑的脫水、吸附劑、催化劑、冶煉鋁的原料、耐火材料。

二、氧化鋁的分散問題

 

近年來,已超細氧化***體研制功能陶瓷材料和新型功能復合材料受到人們的廣泛關注。但超細氧化***體比表面積大,表面活性高,單個超細顆粒往往處于不穩(wěn)定狀態(tài),顆粒之間因為相互吸引而團聚,易于失去超細粉體*的性能,因此超細氧化***體的分散,是超細氧化***體走向實用化的關鍵。

在水溶液中,氧化鋁漿料中的亞微米機微粒由于受靜電引力等作用發(fā)生團聚,出現(xiàn)絮凝,分層等現(xiàn)象,破壞漿料的分散穩(wěn)定性。為此漿料的分散穩(wěn)定性成為人們研究的重點。影響穩(wěn)定性的因素有很多,如:分散劑種類及用量、分散設備的選擇、粉體的粒度及表面性質、PH值、溫度等。

 

當物料工藝確定后,影響分散穩(wěn)定性的因素就是漿料中粒子的半徑,半徑越小,沉降越慢、穩(wěn)定性越高。這種情況下要提高分散穩(wěn)定性就必須選用高品質的分散設備,來獲得更好的物料粒徑,提高分散的均勻性,推薦GMD2000系列研磨分散機,*的結構,膠體磨+分散機一體化設備,14000rpm高轉速,效果好、效率高。

三、微納米氧化鋁漿料分散設備

 

結合多家化工企業(yè)案例,我司推薦GMD2000系列研磨式高速分散機進行氧化鋁分散,一般可獲得超細的物料粒徑,一般為1-2μm左右。當然還要看具體的物料工藝,以及原始狀態(tài)。

 

GMD2000是由膠體磨和分散機組合而成的設備,轉速高達18000rpm,強大的剪切力。膠體磨磨頭配合分散機分散盤,先研磨后分散。這種特殊的設計的優(yōu)勢在于,粒子細化之后容易出現(xiàn)絮凝現(xiàn)象,所以此時分散十分重要,而砂磨機難以分散。

GMD2000系列研磨分散設備是SGN(蘇州)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將高剪切均質乳化機進行改裝,我們將三層變更為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種分散頭供客戶選擇)。

四、實驗室氧化鋁漿料分散設備

上面介紹的是中試和工業(yè)級使用的分散機,若需要在實驗室進行小試,可以使用SGN的SA25型手持式高剪切分散機,該款產(chǎn)品可以達到28000rpm的高轉速,團聚顆粒經(jīng)過工作頭下方吸料進入剪切區(qū)域,被瞬間撕裂,同時在顆粒表面形成靜電電荷,達到混為排斥進而不再團聚的效果。

研磨分散機選型表

 

型號

流量

L/H

轉速

rpm

線速度

m/s

功率

kw

入/出口連接

DN

GMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

GMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

GMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

GMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

GMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

 

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